11
真空管式炉,多通道气路系统和真空系统组成,1600度真空管式炉,可根据用户需要设计生产(有双温区、三温区、多温区),可预抽真空(有高真空、低真空),通多种气氛(供气系统有质子流量器和浮子流量控制器)。性能可靠。控制电路选用模糊PID程控技术,具有控温精度高,温冲幅度小,性能可靠,唐山真空管式炉,简单易操作等特点。CVD生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。
真空气氛管式炉特点
1、加热炉膛有上下两部分组成、其中上部炉膛可整体向后翻转110°,真空管式炉配件,方便取放实验物料,炉膛材料采用优质的多晶莫来纤维真空吸附制成,节能50%,温场均匀。电热元件采用高电阻优质合金丝
2、完善的气路装置,具有进出气微量可调功能,管内压力由仪表显示,一目了然。采用可靠的多环密封技术,快速链接法兰方便操作;