保护气氛管式炉|洛阳气氛管式炉|龙口电炉厂

真空管式炉，多通道气路系统和真空系统组成，可根据用户需要设计生产（有双温区、三温区、多温区），可预抽真空（有高真空、低真空），通多种气氛（供气系统有质子流量器和浮子流量控制器）。性能可靠。控制电路选用模糊PID程控技术，具有控温精度高，中温气氛管式炉，温冲幅度小，性能可靠，成都气氛管式炉，简单易操作等特点。CVD生长系统适用于CVD工艺，高温气氛管式炉，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。

真空气氛管式炉用途

用于材料或化学实验室，在真空或气氛状态下烧结各种新材料样品。真空气氛管式炉广泛应用于高、中、低温SK工艺，例如；纳米粉体的转相、炭纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长以及碳纳米材料的实验等等；也可适用于金属材料的扩散焊接以及真空或保护气氛下热处理。